[뉴스핌=김민정 기자] 삼성전자가 올해 사상최대의 시설투자에 나선다. 공격적인 투자를 감행하면서 시장 선도업체의 위상을 지켜가겠다는 의지가 엿보인다. 

삼성전자는 26일 올해 24조원 규모의 시설투자를 집행할 계획이라고 공시했다. 이는 지난해 22조8500억원에 비해 1조원 이상 늘어난 수준이다.

24조원의 집행 비용 중 절반 이상이 반도체 생산능력 확장에 사용될 것으로 보인다. 삼성전자는 반도체 사업에 13조원, 디스플레이 패널(DP) 사업에 6조5000억원 등을 투입할 예정이다. 

지난 상반기 삼성전자는 총 9조원의 시설투자를 집행했다. 이중 반도체에 2조2000억원, 예에 1조3000억원, 기타에 1조7000억원이 각각 투입됐다. 이로써 하반기 중 투자규모는 15조원에 달할 것으로 보인다.

삼성전자 관계자는 “이번 투자계획은 사상최대였던 전년도보다 1조원 이상 증가한 규모이며, 하반기 및 내년도 시황 등을 감안해 규모가 더 증가할 수 있다”고 설명했다.

노근창 HMC투자증권 애널리스트는 “시설투자가 상당히 공격적”이라며 “반도체 쪽은 생각보다 더 빨리 생산능력 확장을 하려는 것 같다”고 평가했다.

다만 일각에서는 이 같은 공격적인 투자 집행이 오히려 독이 될 수 있다고 지적한다. 

이승우 IBK투자증권 애널리스트는 “반도체 업체들이 최근 시설투자를 자제하면서 좋은 분위기로 이어져 왔는데 다시 한 번 캐펙스 사이클에 들어갈 수 있다”며 “다른 업체들도 투자를 같이 하게 되면 생산능력이 높아지고 공급이 늘아지면서 가격이 떨어질 수 도 있다”고 설명했다.




[뉴스핌 Newspim] 김민정 기자 (mj72284@newspim.com)