세메스 전 직원 등 공범, 징역 1년6월 실형
"가중요소 참작해도 징역 4~5년, 엄단 필요"
[서울=뉴스핌] 이성화 배정원 기자 = SK하이닉스와 삼성전자 자회사 세메스의 반도체 관련 국가핵심기술을 중국 경쟁업체에 유출한 혐의로 기소된 반도체 장비업체 임직원들에 대한 1심 결론이 한달여 앞두고 이들에게 선고될 형량에도 관심이 집중된다.
28일 법조계에 따르면 서울중앙지법 형사합의25-3부(지귀연 박정길 박정제 부장판사)는 오는 8월 30일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률(산업기술보호법) 위반 등 혐의로 기소된 A사와 부사장 신모 씨 등 임직원 9명에 대한 1심 선고를 진행한다.
◆ 세메스·SK하이닉스 반도체 기술 유출…공범은 실형
A사와 임직원들은 2018년 8월부터 2020년 6월까지 SK하이닉스의 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술 및 반도체 세정 레시피 등을 중국 반도체 업체에 누설한 혐의로 2021년 1월 재판에 넘겨졌다. 당시 중국 경쟁업체에 유출된 기술은 10나노급 D램 반도체 제조 공정의 핵심 기술로 조사됐다.
또 2017년 3월부터 2020년 8월까지 세메스가 세계 최초로 개발한 초임계 세정장비 도면 등 반도체 관련 기술과 영업비밀을 전직 세메스 직원으로부터 취득해 자신들의 수출용 반도체 장비 개발에 사용한 혐의도 받는다.
이들은 재판에서 해당 기술은 A사가 단독 소유하거나 SK하이닉스 등과 공동보유한 것으로 고유기술을 침해한 것이 아니라고 주장했다.
이들과 공범으로 기소된 A사의 다른 임직원들과 전 세메스 직원 B씨는 1심에서 각 징역 1년~1년6월을 선고받고 항소심 진행 중이다.
검찰에 따르면 A사는 중국 반도체 제조업체로부터 세메스의 초임계 세정장비 개발을 의뢰받자 B씨 등으로부터 관련 도면을 제공받아 범행을 저지른 것으로 조사됐다. B씨는 2019년 3월 세메스에서 퇴사하면서 도면 파일 500개가 담긴 이동식저장장치(USB)를 무단 반출한 업무상배임 혐의도 받는다.
당시 재판부는 이들이 공모해 세메스에서만 만들 수 있는 초임계 세정장비에 관한 산업기술과 영업비밀을 부정한 방법으로 취득·사용했다며 실형을 선고했다. 다만 이들을 법정구속하거나 보석을 취소하지는 않았다.
◆ 법조계 "피해 규모·경제적 이익 등 고려, 최대 징역 4~5년"
법조계는 이미 1심 판단이 난 공범 사건은 피해 회사가 세메스 한 곳뿐이지만 이번 사건은 세메스 외에 SK하이닉스에 대한 기술 유출 혐의도 있다는 점에서 더 높은 형량이 나올 것으로 예상한다.
곽준호 법무법인 청 변호사는 "최대 징역 3~4년 정도 실형이 선고될 것으로 예상한다"며 "반도체 기술 자체가 한 기업을 떠나 국가의 운명을 좌우할 정도로 중요하기 때문에 이 부분의 기술 유출은 엄중한 처벌이 필요하다"고 말했다. 그는 "어느 정도로 유출됐는지, 실제 손해가 얼마나 발생했는지 피해 규모에 따라 처벌 수위는 달라질 것"이라고 부연했다.
구태언 법무법인 린 변호사는 "10나노급 D램 반도체 제조 공정 기술을 유출했다고 하는데 현재 기준으로는 옛날 기술이지만 이 사건 당시에는 최신 기술이었을 것"이라며 "중국에 유출해 심각한 피해를 초래했고 경제적 이익을 얻는 등 이런 것들이 형량에 모두 가중요소로 적용되면 최대 징역 4~5년이 선고될 것 같다"고 내다봤다.
실제 유사한 기술 유출 사건에서 법원은 실형을 선고하고 있다. 수원지법 형사15부(이정재 부장판사)는 지난 11일 부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 구속기소된 전직 세메스 연구원 C씨에게 징역 5년에 벌금 5억원을 선고했다.
C씨는 2016년 세메스에서 퇴직한 뒤 다른 반도체 장비업체를 설립해 2021년 경 세메스의 초임계 반도체 세정 장비 핵심 도면을 중국에 유출한 혐의 등을 받는다.
대법원은 지난 13일 삼성전자가 1500억원의 연구비를 들여 개발한 스마트폰 엣지 패널 기술을 중국에 팔아넘긴 혐의로 재판에 넘겨진 전 톱텍 대표에게 징역 3년을 선고한 원심을 확정했다.
코닝정밀소재의 액정표시장치(LCD)용 유리기판 제조 공법을 보여주는 설계도면 9개 등 영업비밀을 중국기업에 유출한 혐의로 기소된 전 코닝정밀소재 직원은 지난달 1일 대법원에서 징역 2년의 실형을 확정받았다.
이런 가운데, 검찰은 최근 기술유출 범죄에 대한 구형 기준을 마련하고 대법원 양형위원회도 관련 범죄 양형기준을 수정하기로 하는 등 그동안 지적된 솜방망이 처벌 논란을 해결하기 위한 움직임이 활발해지고 있다.
shl22@newspim.com
