AI 핵심 요약
beta- ASML이 9월 14일 AI 수요 대응을 위해 2028년 EUV 장비 110대 이상 생산 방안을 검토했다.
- JP모간은 ASML 수요가 매우 강하고 2028년 주문이 집중됐다고 전했다.
- 인텔은 2027년 복귀가 예상됐고 하이-NA 도입은 2028년 시작될 전망이다.
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이 기사는 인공지능(AI) 번역을 바탕으로 전문 기자들의 검증과 분석을 거쳐 생산된 콘텐츠입니다. 원문은 9월14일 로이터통신 기사(ASML examining ways it can make more than 110 EUV tools in 2028, JPMorgan says)입니다.
[서울=뉴스핌] 이홍규 기자 = ASML(종목코드 동일)이 인공지능(AI) 수요에 대응하기 위해 2028년 극자외선(EUV) 노광장비를 110대 이상 생산할 수 있는 방안을 검토하고 있다고 JP모간 애널리스트들이 월요일 최고재무책임자(CFO)와의 면담 후 밝혔다. ASML은 2027년분 장비가 거의 매진된 상태이며 최소 80대는 생산할 수 있다고 밝힌 바 있고, 2028년에는 생산량을 30% 늘리는 것을 목표로 하고 있다고 설명했다.
JP모간 애널리스트들은 보고서에서 경영진이 수요가 여전히 매우 강하다는 점을 시사했다고 전했다. 현재 주문 대부분은 2028년 인도분 EUV 장비에 집중돼 있다고 덧붙였다. ASML의 생산 제약 요인은 공급망이 아니라 EUV 장비 조립 속도라는 점도 함께 언급됐다.
인텔(INTC)은 2027년 다시 유의미한 고객사가 될 것으로 전망됐다. 일론 머스크의 테라팹을 포함한 신규 고객사들도 사업을 확대해가고 있는 것으로 파악됐다. 칩 1개당 사용량을 뜻하는 집적도 지표로 측정되는 EUV 사용량은 현재 사이클에서 증가하고 있는 것으로 나타났다.
차세대 하이-NA(High NA) 장비 도입은 2028년 시작되지만 향후 10년에 걸쳐 보다 의미 있는 수준으로 확대될 것으로 전망됐다. 중국 메모리 반도체 업체 대상 매출은 2027년 더 강세를 보일 것으로 전망됐다. 레이저 기술 발전을 감안할 때 ASML은 머스크가 선호하는 새로운 자유전자레이저(FEL) 광원을 시도할 계획이 없는 것으로 파악됐다.
bernard0202@newspim.com
