AI 핵심 요약
beta- 나노실리칸첨단소재는 4일 실리콘 음극재 특허에 의견서를 냈다.
- 표면개질과 탄소코팅을 한 공정에 통합해 효율과 원가를 낮춘다.
- 후속 특허 2건도 출원해 조기 IP 확보에 나선다.
!AI가 자동 생성한 요약으로 정확하지 않을 수 있어요.
초기효율 개선 기술도 포함
[서울=뉴스핌] 양태훈 기자 = 나노실리칸첨단소재가 지난해 말 출원한 실리콘 음극재 제조공정 특허의 신속한 권리 확보를 위해 특허청의 의견제출통지서(OA)에 대한 의견서를 제출하고 우선심사를 신청했다.
나노실리칸은 4일 표면개질과 탄소코팅을 하나의 공정에서 동시에 수행하는 '실리콘 음극재 제조공정'(출원번호 10-2025-0210726) 특허와 관련해 OA 의견서를 제출하고 우선심사를 신청했다고 밝혔다.
기존 실리콘 음극재 제조기술은 성능 향상을 위한 표면개질 공정과 전도성 확보를 위한 탄소코팅 공정을 각각 진행하는 방식이 주로 활용돼 왔다.
나노실리칸은 자사 기술이 표면개질과 탄소코팅 공정을 하나로 통합하는 방식으로 공정 단계를 줄이고 제조 효율을 높일 수 있다고 설명했다. 이를 통해 제조원가 절감에도 기여할 수 있을 것으로 보고 있다.
회사는 지난 8월 기존 1차 특허를 보완한 후속 특허 2건도 추가 출원했다.
2차 특허(출원번호 10-2026-0164122)와 3차 특허(출원번호 10-2026-0164148)는 표면개질과 탄소코팅을 동시에 수행하는 과정에서 발생하는 실리콘 표면의 변화를 정밀하게 제어하고 정량적으로 측정하는 방법을 담고 있다.
3차 특허에는 실리콘 음극재의 초기효율(Initial Coulombic Efficiency·ICE) 저하 문제를 제조공정 단계에서 개선하기 위한 전리튬화(Pre-lithiation) 공정 적용 메커니즘도 포함됐다.
나노실리칸은 이번 특허 출원과 우선심사 신청을 통해 실리콘 음극재 관련 지식재산권(IP)을 조기에 확보한다는 계획이다.
나노실리칸 관계자는 "이번 연쇄 특허 출원은 실리콘 음극재 상용화의 주요 걸림돌로 꼽혀온 높은 제조비용과 초기효율 저하 문제를 동시에 해결할 수 있는 독자적인 기술 기반을 마련했다는 데 의미가 있다"며 "우선심사 제도를 활용해 IP를 조기에 확보하고 차세대 배터리 소재 시장에서 기술 경쟁력을 지속적으로 강화해 나갈 것"이라고 말했다.
dconnect@newspim.com
