[뉴스핌=추연숙 기자] 반도체 업계에서 유일하게 14나노 공정으로 반도체를 생산중인 삼성전자가 이번에는 10나노 공정 기술 개발에 성공했다.

김기남 삼성전자 반도체총괄 사장은 23일(현지시간) 미국 샌프란시스코에서 열린 국제고체회로학회(ISSCC)에서 기조연설을 맡아 반도체 미세화 공정을 소개하며 삼성전자가 10나노 기술 개발을 완료했다고 말했다.

경쟁사보다 앞서 14나노 공정 반도체를 양산 중인 삼성전자가 다시 한번 기술의 한계를 뛰어넘는 것이다. 나노 공정은 숫자가 작을 수록 더 정교한 첨단 기술이다. 10나노는 반도체 회로의 굵기가 10억분의 1이라는 뜻.

학회 기조연설 중에 김 사장은 10나노급 반도체 기술을 깜짝 공개했다. 메모리 분야에선 10나노급 D램과 3차원 V낸드, 시스템 반도체에서는 10나노 핀펫 기술을 선보였다.

김 사장은 "반도체 미세화의 기술 한계는 없으며, 실리콘 반도체 기술 혁신은 계속 이어져 미래에도 반도체 산업에 더 많은 기회가 주어질 것"이라고 강조했다.

현재 14나노 공정 반도체를 생산하는 업체도 삼성전자가 유일하다. 이번에 삼성전자가 10나노 기술 개발 성공을 먼저 밝히면서 유수의 경쟁사들에 비해 앞서나가게 됐다.

반도체 위탁생산(파운드리) 전문 업체 TSMC도 올해부터 10나노 공정 반도체를 양산하겠다는 계획을 밝힌 바 있지만 TSMC 아직 관련 공정기술을 개발중인 것으로 알려졌다.

한편 ISSCC는 세계 반도체 전문가들이 모여 관련 연구 논문을 발표하는 학회로 3대 반도체 기술 관련 학회로 꼽힌다.


[뉴스핌 Newspim] 추연숙 기자 (specialkey@newspim.com)