[베이징=뉴스핌] 조용성 특파원 = 중국의 반도체 장비업체인 SMEE(상하이마이크로전자, 上海微電子)가 28나노(nm)급 노광기(포토리소그래피)를 올해 하반기에 출시할 것이라는 전망이 제기됐다.

SMEE가 연말까지 최초의 28㎚ 액침불화아르곤(ArFi) 기반 심자외선(DUV) 노광장비(모델명: SSA800-10W) 1대를 중국내 고객사에게 납품할 것으로 예상된다고 중국의 IT 전문매체인 아이지웨이(愛集微)가 2일 전했다.
SSA800-10W는 ASML의 DUV2000i와 유사하지만, 성능지표는 DUV2000i에 비해 높을 것으로 전해졌다. 현재 1년여 노광기 생산라인이 가동되고 있으며, 연말이면 소량 생산이 가능할 것으로 전해졌다.

2002년에 설립된 SMEE는 중국 최고의 노광장비 제조업체다. SMEE는 2009년 중국 최초의 저성능 노광기를 개발한 이후 2018년 90㎚ 노광기를 출시했다. SMEE는 2016년부터 중국 국가정책과제의 일환으로 28㎚ 노광장비 개발에 나서 2021~2022년에 납품하겠다는 목표를 세웠다.

중국이 자체적으로 28㎚ 노광장비를 개발할 경우, 현재 세계 최첨단인 5nm 노광기에 비해 성능은 떨어지겠지만, 성숙공정 반도체 분야에서 상당한 국산 대체효과를 불러일으키게 된다.

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